© 2023-2026 上海数据发展科技有限责任公司 版权所有
沪ICP备17003045号-15沪公网安备31010402336585号
安徽立光电子材料股份有限公司
企业安徽立光电子材料股份有限公司围绕相关业务开展运营。面向材料研发、功能涂层优化、透明导电薄膜等领域提供数据服务，开放高性能电子材料研发实验数据集（材料研发、功能涂层优化）、导电光学材料电阻率对溅射镀膜效率的影响分析数据集（透明导电薄膜、溅射工艺）、磁控溅射镀膜柔性材料生产工艺优化数据集（柔性导电薄膜工艺优化、智能穿戴器件材料开发），支撑品质管理与工艺优化。
材料研发功能涂层优化透明导电薄膜
数据集列表
高性能电子材料研发实验数据集
该数据集共包含60条记录（编号LG-EXP-0001至LG-EXP-0060），覆盖ITO导电薄膜、增透膜、硬化涂层、防指纹涂层及高折射率层五类材料体系。每条实验数据详细记录了配方详情、关键工艺参数，以及对应的性能测试结果：透光率、雾度、方块电阻、附着力等级、铅笔硬度等。此外，部分实验标注了重复验证批次或结论说明。涵盖了不同材料体系下配方与工艺的协同调整，以及性能优劣的直观对比。该数据集可用于材料配方优化、工艺参数敏感性分析、性能预测建模以及质量一致性评估，为高透光、低电阻、高硬度等功能涂层的研发提供结构化实验基础。
安徽省数据知识产权登记平台2026-04-20 更新60
磁控溅射镀膜柔性材料生产工艺优化数据集
本数据集涵盖2024年第四季度至2025年第一季度期间60个批次的柔性材料生产工艺与性能检测数据。数据集共包含60条记录、14个字段，每条记录对应一个生产批次的完整工艺参数与关键质量指标。数据经过异常剔除、缺失插补及归一化处理，并已完成区块链存证。
本数据集主要用于柔性导电薄膜（PET/CPI基材）工艺参数寻优、弯折寿命预测及产品分级。通过分析工艺参数与电学、光学、机械性能的映射关系，可辅助工程师快速锁定最优工艺窗口，提升柔性触控材料、智能穿戴器件的开发效率与良品率。数据具有明确的实用价值与行业代表性。
安徽省数据知识产权登记平台2026-04-20 更新30
纳米膜层玻璃工艺参数优化数据集
本数据集来源于纳米膜层玻璃磁控溅射工艺优化实验，共包含60条有效记录，涵盖单层SiO₂（AR）、双层TiO₂/SiO₂、三层TiO₂/SiO₂/TiO₂、Si₃N₄保护层、SiO₂+Si₃N₄复合、五层减反射堆栈、单层MgF₂及SiO₂/TiO₂梯度等10类典型膜层体系。每条数据记录了溅射功率、基板温度、氧气流量、氩气流量等关键工艺参数，以及沉积速率、膜厚、折射率、透光率、附着力、铅笔硬度等性能指标，并附有综合性能评价。数据集旨在揭示工艺参数与膜层光学、力学性能之间的关联规律，为减反射膜、硬质保护膜的高效制备提供数据支撑，适用于工艺窗口寻优、性能预测建模及质量异常诊断。
安徽省数据知识产权登记平台2026-04-20 更新20
导电光学材料电阻率对溅射镀膜效率的影响分析数据集
本数据集来源于导电光学材料溅射镀膜工艺实验，共包含60条有效记录，涵盖ITO、AZO、GZO、IWO及高阻ITO五种典型透明导电材料体系。每条数据记录了材料电阻率、溅射镀膜效率、膜厚、方块电阻、透光率、附着力、溅射功率及基板温度等关键工艺与性能指标。数据旨在探究靶材导电性与溅射沉积速率、薄膜光电性能之间的关联，为透明导电薄膜的工艺优化、靶材选型及质量控制提供支撑。不同材料体系下电阻率与效率呈现明显负相关趋势，高阻样品（>50 μΩ·cm）效率显著下降。该数据集适用于溅射工艺建模、性能预测及异常阈值识别。
安徽省数据知识产权登记平台2026-04-20 更新20
ITO导电玻璃工艺参数优化数据集
本数据集共包含60条记录、15个字段，每条记录对应一个生产批次的完整工艺参数与性能指标。核心字段包括：沉积温度、溅射功率、氧气/氩气流量、工作压强、镀膜速率等工艺参数，以及膜厚、方阻、透光率、附着力等级、膜厚均匀性、方阻均匀性等关键质量指标。数据经过清洗、归一化及正交试验扩展处理，并已完成区块链存证。
本数据集主要用于ITO导电玻璃镀膜工艺的参数寻优、质量预测及产品分级。通过分析工艺参数与性能指标的映射关系，可辅助工程师快速定位最优工艺窗口，提升产品良率与一致性。数据具有明确的实用价值与行业代表性，适用于电子材料领域的智能制造与质量控制场景。
安徽省数据知识产权登记平台2026-04-20 更新30