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铪锆氧薄膜铁电性研究

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本工作制备厘米级、无裂纹、自支撑的 Hf 0.5 Zr 0.5 O 2。报道了非常适合在微观和介观尺度上研究局部结晶相、取向和晶界的 (HZO) 纳米膜。平面晶体学图案的原子级成像表明,超过 80% 的晶粒是铁电正交晶相,这些晶粒的平均等效直径约为 12.1 nm,值范围为 4 至 50 nm。此外,铁电正交相在无底物的 HZO 膜中是稳定的,这表明来自衬底的应变不是维持极性相的原因。还证明了在柔性基板上制备的 HZO 电容器高度均匀、稳定和坚固。

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铪锆氧薄膜铁电性研究 数据集图片
背景与挑战
背景概述
该数据集聚焦于铪锆氧薄膜的铁电性研究,制备了厘米级自支撑Hf0.5Zr0.5O2纳米膜,并分析了其铁电正交晶相的结构与稳定性。研究涉及薄膜物理学领域,旨在探索无衬底应变下材料的铁电性能。
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