一种金刚石-氧化铝复合薄膜及其制备方法

公开了一种金刚石-氧化铝复合薄膜制备方法，包括采用MPCVD 方法在硅基底表面沉积金刚石涂层后，再进行退火得到金刚石/硅基底，将所述金刚石/硅基底放入氢氟酸溶液进行刻蚀得到初始自支撑金刚石薄膜，将所述初始自支撑金刚石薄膜进行抛光至表面粗糙度＜500 nm，得到自支撑金刚石薄膜；采用磁控溅射方法，以氧化铝靶为溅射靶材，氩气为溅射气体，在所述自支撑金刚石薄膜表面沉积氧化铝得到金刚石-氧化铝复合薄膜，其中，溅射功率为 150–300 W，沉积温度为 400–800 ℃，沉积时间为 10–30 h。该方法简单、高效，且制备得到的金刚石-氧化铝复合薄膜具有较高的抗击穿性能和较高的结合力。