硫化物、氮化物与氧化物光敏剂聚碳酸酯膜刻蚀效果

本数据为3款聚碳酸酯激光高敏薄刻蚀效果性能测试，测试内容包含硫化物、氮化物与氧化物光敏剂聚碳酸酯膜刻蚀效果。每款聚碳酸酯激光高敏薄膜包含从0.2wt%至0.8wt%不同掺杂浓度的光敏剂，确定激光扫描速度为1000mm/s,通过调控激光功率变化范围（从10至50W）得到具有不同刻蚀效果的字母图案。所用设备主要为Nd-YAG激光器（1064nm）设备，数据格式为图片，数据量约为5MB。

搜集汇总

背景与挑战

背景概述

该数据集聚焦于硫化物、氮化物与氧化物光敏剂对聚碳酸酯薄膜的激光刻蚀效果测试。通过调控激光功率和掺杂浓度，在固定扫描速度下生成了不同刻蚀程度的字母图案。数据以图片格式呈现，来源于Nd-YAG激光器实验。